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1200℃双温区 4 坩埚分体式 HPCVD 炉(带进样系统)

OTF‑1200X‑II‑ZL 是一款坩埚可在炉管内部移动的管式炉,最多可依次移动 4 个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置 & 炉体的温度控制都采用触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,适合制备多层二维晶体材料。

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更新时间:2026-10-14
Technical Parameters

技术参数

开启式管式炉:

双温区管式炉:两个独立的温控系统分别独立控制两个温区

加热区长度:温区 1:200mm,温区 2:200mm

炉管材料:高纯石英

炉管尺寸:外径:60 × 内径:54× 长:760 mm

温度曲线图 (两个温区设置在 800℃时所测,仅供参考)(可点击图片查看详细资料)

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最高工作温度:1200℃(<1hr)

连续工作温度:1100℃

控温精度:+/-1℃

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真空密封:

配有不锈钢密封法兰,上面安装有不锈钢截止阀和机械压力表

进气端法兰接口为 Φ6.35 卡套接头,出气端法兰接口为 KF25 接口

法兰密封圈采用水冷却,使用时需要通入冷却水,可在本公司选购循环水冷机

真空度:10E‑2 torr(采用机械泵),10‑E5 torr(采用分子泵)


坩埚移动机构(转轮式法兰):

一根铠装热电偶通过左端法兰通入到炉管内部,并与坩埚相连接 (图 1)

通过步进电机驱动使坩埚移动,并和热电偶和坩埚一起移动,实时监测样品的温度

进气端法兰转轮式法兰(图 2)

可同时在转轮系统中放入 4 个坩埚,可交替将放入 4 种材料的石英坩埚自动送入到石英管中(可在真空状态或气氛保护状态进行运作)


坩埚移动控制:

通过一步进电机控制坩埚移动的速度和位置

可控制坩埚最小移动位移为 1mm

坩埚最大移动距离为 200mm

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防腐型数显真空计:

配有一数显防腐型真空计

当气压在 10mbar 以上时,不需因测量气体种类不同而进行系数转换

对于气体的压力检测具有较高的精确度和重复性

因为传感器上镀有涂层,所以具有较好的抗腐蚀性

测量范围:3.8x10‑5 ‑1125 Torr


混气系统:

此套设备中配有一 2 路混气系统

最大输出功率:18W

工作温度:5‑45℃

最大气压:3×106Pa

精度:±1% FS

质量流量计量程:

1:0‑100sccm

2:1‑199sccm

可根据客户要求选购 1‑5 路供气系统


产品尺寸:2400L×600W×1300mm H

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质量认证:若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国 TUV 认证或 CAS 认证


使用注意事项:

炉管内气压不可高于 0.02MPa

由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为 0.01MPa‑0.1MPa,使用时会更加精确安全

当炉体温度高于 1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态

进入炉管的气体流量需小于 200sccm,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

石英管的长时间使用温度<1100℃

对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。

若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于 0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)


应用注意事项:

此款管式炉具有多种用途

热蒸发:把蒸发料放在坩埚里,通过移动坩埚来精确找到所需要的蒸发温度

HPCVD:和热蒸发相似,可通入反应气体与蒸发的物料反应后再沉积

可用于制作多层二维晶体


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国家专利:

专利名称:多样品单通道自动切换进样系统及其进样方法

专利号:ZL 2016 1 0396132.X

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