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聚焦离子束扫描电子显微镜（Zeiss Crossbeam 350）

一款结合高分辨率场发射扫描电子显微镜 (FESEM) 与精密聚焦离子束 (FIB) 的先进双束系统。其核心优势在于两个束流的优异共轴性及高精度样品台，可实现纳米尺度的高精度材料加工、截面制备与三维重构。FIB 束流提供精确的刻蚀、沉积和加工能力，该系统特别适用于半导体器件失效分析、先进材料微观结构表征、透射电镜样品制备以及纳米原型制造，为前沿研究和工业分析提供强大的微纳加工与成像平台。

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更新时间：2026-10-09
Technical Parameters

技术参数

电子束分辨率：1.0 nm @ 1 kV（镜筒内探测器）；0.8 nm @ 15 kV （STEM模式） 


离子束分辨率： 2.5 nm @ 30 kV；1.0 nm @ 1 kV (镜筒内探测器) 


结合 ATLAS 3D 软件，自动切片+成像重构纳米级三维结构（如芯片、材料孔隙）


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